ETUDE THEORIQUE DE LA STRUCTURE ET LA DELOCALISATION DE CHARGE DES HALOSILICONATES R-O-Si(CH3)3X

MOHAMMED, AICHI (2021) ETUDE THEORIQUE DE LA STRUCTURE ET LA DELOCALISATION DE CHARGE DES HALOSILICONATES R-O-Si(CH3)3X. Doctoral thesis, Université de mohamed kheider biskra.

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Abstract

Structures des halosiliconates pentavalents RO-Si (CH3) 3X- (X = F-; Cl-; Br-) et (R = CH3-; CH3-CH2-; -CH (CH3) 2; -CH = CH2; C6H5-) sont étudiés en utilisant des calculs de théorie fonctionnelle de densité (DFT) au niveau B3LYP / 6-31G (d) pour comprendre les caractéristiques de liaison de structure et la délocalisation de la densitéélectronique. Nos résultats indiquent que les fluorosiliconates pentavalents R-O-Si (CH3) 3F- sont des intermédiaires stables pour toutes les substitutions avec une géométrie bipyramidale trigonale. Les substituants préfèrent la position axiale et la perte de groupe alcoxy est détectée via le transfert de charge électronique. Dans le cas de X = Cl-; Br-, les intermédiaires adoptent une structure dans laquelle le groupe alcoxy est presque en double liaison avec un atome de silicium. La perte de Cl- et Br- détectée par leur charge négative (-0,941) et distance de 3,89 Å du centre du silicium. Par ailleurs, les structures halotriméthylsilyloxyfurane (X-TMSOF) sont également étudiées au même niveau de calculs. L'analyse NBO a fourni plus de détails sur le collage de la nature. La méthode GIAO permet de calculer les décalages RMN δ29Si pour les systèmes R-O-Si (CH3) 3X-. Une corrélation entre la distance (Si – X), l'angle (Si-OC) et les déplacements RMN δ29Si a été établie

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